Vanne U.H.P pour process ALD

Ky-Tech a le plaisir de présenter sa nouvelle gamme de vannes à membranes de la série TDF4, elles sont compatibles avec les gaz de haute pureté.
La durabilité de l’ouverture/fermeture à grande vitesse et la stabilité du Cv requises pour les processus de dépôt de couche atomique (ALD) et de gravure par couche atomique (ALE).

La gamme se compose de différentes vannes comportant les caractéristiques suivantes :

Modèle : TDF 

Taille : 4 : ¼”

Opération : Normalement fermé/ Normalement ouverte

Forme de la vanne : Droite/ Plusieurs ports 

Raccords : Mâle/ Femelle 

Matériau du siège : PFA

Capteur : Ouvert/ Fermé/ Sans capteur

Option : Capteur avec électrovanne

Grade : EP 316L/ STP 316L/ SEP-316LE

N’hésitez pas télécharger la brochure technique en cliquant sur le lien ci-dessous :

https://drive.google.com/file/d/1sQhJbz8ey5CB9rg9ponz7r9RZNVp_Vt_/view?usp=sharing