POMPES Serie BPS

LEVITRONIX

POMPE CENTRIFUGE REVOLUTIONNAIRE A LEVITATION MAGNETIQUE

Levitronix a developppé pour l'industrie chimique une pompe centrifuge sans roulement qui emprunte la technologie de la lévitation magnétique. Avec la technologie Levitronix, le rotor de la pompe est maintenu en suspension et commandé eléctromagnétiquement à travers le corps de pompe et ceci sans liaison mécanique (Figure ci contre). La tête de pompe est constituée de deux parties: le rotor et le corps de pompe. Ces deux pieces sont fabriquées avec des résines fluo-carbonées compatibles avec les liquides les plus agressifs, acides, solvants, hautes temperatures...
Le débit et la pression sont controlés précisement en régulant électroniquement la vitesse de rotation du rotor.

Avantages du système :

  • Pas de génération de particules
  • Adapté au pompage de fluides délicats
  • Pas d'usure mécanique : Réduction des temps d'arrêts et coûts de maintenance
  • Pas de pulsation
  • Débit continu : Amélioration du contrôle de procéde
  • Régulation précise de la vitesse de rotation, de la pression et du débit
  • Encomberment réduit,:Réduction taille équipement
  • Fonctionnement a sec non dommageable
  • Conception sans joint tournant
  • Pas de comaltage/grippage

Applications :

  • Semiconducteur
  • "Wet Ectchin"
  • "Wet Cleaning"
  • Transfert de fluide haute puteté
  • Melangeur

POMPES Serie BPS i30

LEVITRONIX

Débit: 7.4 l/mn      Pression: 1.5 bar

Dans la série BPS-i, le contrôleur et le moteur sont intégrés dans le boîtier du pilote.

La pompe BPS-i30 est une pompe centrifuge révolutionnaire. Basé sur les principes de la lévitation magnétique, la roue de la pompe est suspendue, sans contact, à l'intérieur d'un boîtier étanche et est entraînée par le champ magnétique du moteur. L'impulseur et l'enveloppe sont fabriqués à partir de résines fluorocarbonées de haute pureté résistantes aux produits chimiques. Le débit et la pression du fluide sont contrôlés avec précision en régulant électroniquement la vitesse de la turbine sans pulsation.

Avantages du système :

  • Génération de particules extrêmement faible en raison de l'absence de pièces en contact mécanique
  • Augmentation du temps de disponibilité de l'équipement
  • Réduction des coûts d'entretien en éliminant les soupapes, les paliers, les joints rotatifs et les reconstructions coûteuses
  • Coûts d'intégration très faibles car aucun contrôleur externe n'est nécessaire pour la régulation en vitesse ou en boucle fermée
  • Réduction du risque de contamination grâce à la conception autonome avec paliers magnétiques
  • Très doux pour les fluides sensibles en raison de la conception à faible cisaillement
  • Pas d'espaces étroits et de fissures où des particules ou des microorganismes pourraient être piégés
  • Écoulement lisse et continu sans pulsation de pression
  • Contrôle électronique de la vitesse
  • Conception compacte par rapport aux pompes pneumatiques et à entraînement magnétique
  • Technologie éprouvée dans l'industrie médicale et des semi-conducteurs (MTBF> 50 ans)

POMPES Serie BPS-1

LEVITRONIX

Pompes dédiées aux applications Microelectronics et Nanotechnologies les plus exigeantes.
-"Wet Etching"
-"Wet Cleaning"
-"CMP"

Débit: 21 l/mn      Pression: 1.6 bar

Compatibilites avec tout type de chimies, acides bases les plus concentrees, sans generation de particules ou de contamination metaliiques.

Avantages du système :

  • Améliore les rendements de production de CMP en produisant 200 à 1000 fois moins de particules à gratter que les autres pompes
  • Augmente la durée de vie du filtre dans les boucles de recirculation CMP d'un facteur allant jusqu'à 15 en générant moins de gels et de grosses particules
  • Réduit les problèmes de contamination des particules dans les processus humides en générant 10 à 50 fois moins de particules
  • Améliore et simplifie le contrôle du processus en éliminant les pulsations et en contrôlant avec précision le débit et la vitesse du rotor
  • Augmente la disponibilité de l'équipement et réduit les coûts d'entretien en réduisant l'usure des pièces
  • Augmente le temps de fonctionnement de l'équipement et réduit les coûts de maintenance dans les applications de placage en offrant une opération sans colmatage
  • Économise de l'espace précieux dans les outils de traitement en ayant un très faible encombrement

POMPES Serie BPS-3

LEVITRONIX

Pompes dédiées aux applications Microélectronics et Nanotechnologies les plus exigeantes.
-"Wet Etching"
-"Wet Cleaning"
-"CMP

Débit: 75 l/mn      Pression: 2.5 bar

Compatibilités avec tous types de chimies, acides bases les plus concentrées, sans génération de particules ou de contamination metalliques.

Avantages du système :

  • Améliore les rendements de production de CMP en produisant 200 à 1000 fois moins de particules à gratter que les autres pompes
  • Augmente la durée de vie du filtre dans les boucles de recirculation CMP d'un facteur allant jusqu'à 15 en générant moins de gels et de grosses particules
  • Réduit les problèmes de contamination des particules dans les processus humides en générant 10 à 50 fois moins de particules
  • Améliore et simplifie le contrôle du processus en éliminant les pulsations et en contrôlant avec précision le débit et la vitesse du rotor
  • Augmente la disponibilité de l'équipement et réduit les coûts d'entretien en réduisant l'usure des pièces
  • Augmente le temps de fonctionnement de l'équipement et réduit les coûts de maintenance dans les applications de placage en offrant une opération sans colmatage
  • Économise de l'espace précieux dans les outils de traitement en ayant un très faible encombrement

POMPES Série BPS-4

LEVITRONIX

Débit: 140 l/mn      Pression: 4.1 bar

Avantages du système :

  • Améliore les rendements de production de CMP en produisant 200 à 1000 fois moins de particules à gratter que les autres pompes
  • Augmente la durée de vie du filtre dans les boucles de recirculation CMP d'un facteur allant jusqu'à 15 en générant moins de gels et de grosses particules
  • Réduit les problèmes de contamination des particules dans les processus humides en générant 10 à 50 fois moins de particules
  • Améliore et simplifie le contrôle du processus en éliminant les pulsations et en contrôlant avec précision le débit et la vitesse du rotor
  • Augmente la disponibilité de l'équipement et réduit les coûts d'entretien en réduisant l'usure des pièces
  • Augmente le temps de fonctionnement de l'équipement et réduit les coûts de maintenance dans les applications de placage en offrant une opération sans colmatage
  • Économise de l'espace précieux dans les outils de traitement en ayant un très faible encombrement

POMPES Série BPS-i100

LEVITRONIX

Série de pompes intégrées BPS :

Débit: 20 l/mn      Pression: 1.6 bar

Dans la série BPS-i, le contrôleur et le moteur sont intégrés dans le boîtier du pilote. L'impulseur et l'enveloppe sont fabriqués à partir de résines fluorocarbonées de haute pureté résistantes aux produits chimiques. Le débit et la pression du fluide sont contrôlés avec précision en régulant électroniquement la vitesse de la turbine sans pulsation.

Avantages du système :

  • Génération de particules extrêmement faible en raison de l'absence de pièces en contact mécanique
  • Augmentation du temps de disponibilité de l'équipement
  • Réduction des coûts d'entretien en éliminant les soupapes, les paliers, les joints rotatifs et les reconstructions coûteuses
  • Coûts d'intégration très faibles car aucun contrôleur externe n'est nécessaire pour la régulation en vitesse ou en boucle fermée
  • Réduction du risque de contamination grâce à la conception autonome avec paliers magnétiques
  • Très doux pour les fluides sensibles en raison de la conception à faible cisaillement
  • Pas d'espaces étroits et de fissures où des particules ou des microorganismes pourraient être piégés
  • Écoulement lisse et continu sans pulsation de pression
  • Contrôle électronique de la vitesse
  • Conception compacte par rapport aux pompes pneumatiques et à entraînement magnétique
  • Technologie éprouvée dans l'industrie médicale et des semi-conducteurs (MTBF> 50 ans)

Série de contrôleurs de débit intégrés BPS-iF100

LEVITRONIX

Dans la série BPS-iF, le contrôleur, le moteur et le convertisseur de débit sont intégrés dans le boîtier du pilote.

La pompe BPS-iF100 est une pompe centrifuge révolutionnaire qui n'a pas de paliers à s'user ou de joints qui se décomposent et échouent. Basée sur les principes de la lévitation magnétique, la turbine de la pompe est suspendue, sans contact, à l'intérieur d'un carter étanche et est entraînée par le champ magnétique du moteur. Le débit est mesuré avec la technologie éprouvée de capteur à ultrasons LEVIFLOW ® qui n'invite pas dans le trajet du fluide.

La tête de pompe et le capteur sont tous deux fabriqués à partir de résines fluorocarbonées de haute pureté résistantes aux produits chimiques. Le débit et la pression du fluide sont contrôlés avec précision en régulant électroniquement la vitesse de la roue sans pulsation.

Informations sur le BPS-iF100 :

Avantages du système :

  • Haute précision, dynamique et taux de rotation élevé
  • Pas de dépendance à la source de pression externe
  • Génération de particules extrêmement faible en raison de l'absence de pièces en contact mécanique
  • Augmentation de la disponibilité de l'équipement avec des coûts de maintenance réduits grâce à l'élimination des vannes, des roulements, des joints rotatifs et des reconstructions coûteuses
  • Coûts d'intégration très faibles car aucun contrôleur externe n'est nécessaire pour le contrôle de flux
  • Risque de contamination réduit grâce à la conception autonome avec roulements magnétiques et technologie à ultrasons
  • Fluides très doux pour les fluides sensibles grâce à la conception à faible cisaillement
  • Pas de trous et de fissures étroits où des particules ou des micro-organismes pourraient être piégés
  • Écoulement régulier et continu sans pulsation de pression
  • Pompe éprouvée et technologie de mesure de débit par ultrasons